Com informações da Agência Fapesp - 03/02/2017
Deposição a laser
Pesquisadores do Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais (CDMF), em São Paulo, construíram um sistema de Deposição a Laser Pulsado, ou PLD (Pulsed Laser Deposition).
"O PLD utiliza um feixe de laser pulsado de alta intensidade e energia para bombardear um ou mais alvos em uma câmara de vácuo. O feixe atinge o alvo - um material cerâmico, por exemplo -, que transita do estado sólido para plasma, e o 'transporta' até um substrato - superfície a ser revestida -, recobrindo-o", explica o pesquisador Leonélio Cichetto Júnior, responsável pela montagem e construção do equipamento durante sua tese de doutorado.
O aparelho de última geração já está sendo utilizado nas pesquisas com filmes finos supercondutores e para aplicação em memórias ferroelétricas, investigações sobre o grafeno e nanofios, entre outras.
Novos tipos de memória
O equipamento beneficiará as pesquisas de instituições em todo o país, que poderão utilizá-lo para realizar seus experimentos.
"Nos últimos anos a técnica PLD vem-se tornando cada vez mais atraente por seu baixo custo e pela possibilidade de variar os parâmetros sobre um vasto leque de possibilidades, como densidade de energia, grau de ionização, temperatura do substrato e a disposição geométrica dos equipamentos dentro da câmara de deposição", afirma o pesquisador, que está utilizando seu equipamento para desenvolver novos tipos de memórias para computador.
"O composto niquelato de lantânio (LaNiO¬3) é um material interessante com aplicações promissoras na fabricação de filmes finos nanoestruturados", afirmou. Já o titanato de bário (BaTiO3), uma cerâmica policristalina, tem propriedades como piezoeletricidade e pode ser utilizado na fabricação de memórias dielétricas/ferroelétricas.
Heteroestruturas
Para entender as propriedades físicas desses materiais, Cichetto vem estudando a deposição de filmes finos desses materiais em diferentes substratos, utilizando o PLD, além de outras técnicas como difração de raios X, microscopia eletrônica de varredura e de força atômica, entre outras.
"A técnica de PLD permite a fabricação não somente de filmes finos simples com monocamadas, mas também a formação de heteroestruturas complexas, por meio da utilização de um carrossel de seis alvos, em sincronia com o laser," concluiu Cichetto.