Nikon iniciará produção de sistemas EUV

Redação do Site Inovação Tecnológica - 21/01/2004

A empresa japonesa Nikon anunciou que não vê mais obstáculos técnicos ao desenvolvimento de sistemas comerciais de litografia por ultravioleta extremo (EUVL: "Extreme Ultraviolet Lithography"). Esses equipamentos serão utilizados para a produção de microprocessadores com tecnologia de 32 nanômetros e memórias DRAM de 45 nanômetros.

A litografia EUV é tida como a mais promissora tecnologia para a fabricação das futuras gerações de semicondutores. Ela irá permitir a produção de chips com estruturas de 45 nanômetros ou menos, comparativamente à escala atual de 100 nanômetros.

Equipamentos EUVL exigem o desenvolvimento de tecnologias inovadoras, incluindo fontes de luz capazes de fornecer luz suficiente com comprimento de onda de 13,5 nanômetros, espelhos extremamente precisos, sistemas de projeção de alta qualidade e um sistema de medição de ondas ultravioletas na faixa extrema do espectro.

A empresa deverá começar a desenvolver esses equipamentos em escala industrial ainda neste ano, estimando lançá-los no mercado em 2.006.