Nanopartícula combate alergia respiratória

Redação do Site Inovação Tecnológica - 09/11/2004

A empresa japonesa Lion Corp., fabricante de medicamentos e produtos de higiene, anunciou o desenvolvimento de uma nanopartícula, medindo cerca de 10 nanômetros de diâmetro, capaz de aliviar os sintomas das reações alérgicas ao pólen.

O produto, batizado de HitecSilica, é recoberto com um filme inorgânico à base de óxido de silício, ou sílica. Quando a sílica atinge a superfície do grão de pólen, o óxido quebra a estrutura da superfície da partícula de pólen. Segundo a empresa, suas pesquisas mostraram que a quebra de sua superfície evita que o pólen libere os alergenos que causam os espirros.

A empresa também desenvolveu um spray para roupas, utilizando sua nova tecnologia. A HitecSilica está em fase de aprovação pelas autoridades médicas do Japão. A empresa não anunciou que o produto deverá chegar ao mercado.

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