Telas de LCD poderão ficar obsoletas graças a técnica de nanopantografia

Redação do Site Inovação Tecnológica - 12/09/2007

Nanopantografia poderá tornar obsoletas as telas planas de LCD

As telas planas de cristal líquido, ou LCD, ainda são novidade no mercado e objeto de desejo da grande maioria da população, seja para um novo monitor de computador, seja para uma nova TV. Mas acaba de surgir uma nova tecnologia que promete deixá-las obsoletas em pouco tempo.

FED - "Field Emission Display"

Cientistas da Universidade de Houston, Estados Unidos, desenvolveram uma técnica que permite a fabricação de dispositivos nanotecnológicos em massa. O novo método de nanofabricação poderá permitir que a indústria substitua os LCD pelos bem mais eficientes monitores de efeito de campo ou FED ("Field Emission Display").

As telas FED utilizam uma grande estrutura de nanotubos de carbono - os mais eficientes emissores de luz que se conhece - para criar uma imagem de resolução bastante superior aos LCD. O problema é que até agora não existia um processo industrial que permitisse sua fabricação em massa.

Nanopantografia

Chamada de nanopantografia, a nova técnica utiliza a fotolitografia padrão para remover seletivamente partes de um finíssimo filme, criando conjunto de micro- lentes capazes de focalizar íons sobre um substrato qualquer, como uma pastilha de silício, na qual são construídos todos os circuitos integrados e microprocessadores.

"Essas lentes agem como elementos focalizadores," explica o pesquisador Vincent Donnelly. "Elas focalizam os feixes para fabricar um furo 100 vezes menor do que o tamanho da lente." Quando a pastilha de silício que está recebendo os feixes de íons é girada, o padrão desejado é replicado simultaneamente em bilhões de pequenos furos, com uma densidade altíssima. O único limite é a dimensão do próprio feixe de íons.

Resolução de 1 nanômetro

Isso significa que os elementos básicos que formam o circuito eletrônico - as chamadas nanoestruturas - podem ser gravadas simultaneamente sobre toda a pastilha de silício em locais predeterminados. E com uma resolução imbatível - técnicas de litografia padrão, capazes de criar lentes de 100 nanômetros de diâmetro, poderão ser utilizadas para a fabricação de nanoestruturas de apenas 1 nanômetro de espessura.