Fotolitografia supera os 30 nanômetros e estende vigência da Lei de Moore

Redação do Site Inovação Tecnológica - 22/02/2006

A IBM não parece disposta a permitir que qualquer dificuldade ameace a Lei de Moore - que estabelece que a quantidade de transistores no interior de um microprocessador dobre a cada 18 meses. Esse ritmo alucinante de miniaturização tem permitido o aumento do poder de processamento dos chips nos últimos 40 anos.

Não é para menos: embora a construção de uma fábrica de chips hoje custe mais de US$2 bilhões, qualquer alternativa pode custar muito mais; além de significar o sucateamento do gigantesco investimento já feito nas fábricas atuais.

E o passo dado pelos cientistas da IBM não foi pequeno: eles conseguiram construir padrões de alta qualidade com dimensões de apenas 30 nanômetros (29,9 nanômetros, para ser mais preciso), um terço do que consegue a tecnologia hoje empregada e abaixo dos 32 nanômetros, valor tido como limite para a técnica de litografia óptica.

A tecnologia utiliza luz ultravioleta-profundo, com comprimento de onda de 193 nanômetros, no processo de litografia óptica, por meio do qual os componentes são "impressos" nos chips. O resultado são linhas bem definidas e perfeitamente espaçadas.

Um elemento-chave para o desenvolvimento do novo processo foi um material especial, desenvolvido pela empresa JSR Micro, parceira da IBM. Os novos materiais exigidos para a construção de estruturas tão minúsculos até agora eram tidos como incompatíveis uns com os outros, produzindo apenas padrões borrados e indistintos. Nenhuma das duas empresas divulgou maiores detalhes sobre este novo material.