Nova técnica para fabricação de chips aparece cinco anos antes do esperado

Redação do Site Inovação Tecnológica - 17/02/2006

Todos os chips de computadores e microprocessadores em geral são construídos por meio de um processo chamado fotolitografia, uma espécie de impressão que permite o "desenho" dos componentes eletrônicos em dimensões microscópicas. Qualquer melhoramento nesse processo pode impactar toda a indústria mundial de semicondutores.

Agora, o professor Bruce Smith, da Instituto de Tecnologia de Rochester, Estados Unidos, liderando um grupo de estudantes de engenharia, desenvolveu uma nova técnica que dá à fotolitografia capacidades que não se imaginava possíveis até agora.

Chamada de litografia de ondas evanescentes, ou EWL, na sigla em inglês ("Evanescent Wave Lithography"), a nova técnica é capaz de gerar imagens de componentes semicondutores em tamanhos que os métodos hoje utilizados não conseguem alcançar.

Os pesquisadores conseguiram criar componentes de apenas 26 nanômetros utilizando ondas de luz visível, uma dimensão só alcançável na faixa do ultravioleta, com a técnica EUV ("Extreme Ultraviolet Wavelength"). Isso significa que a técnica consegue capturar imagens de estruturas que têm apenas 1/20 do comprimento de onda da luz visível.

De acordo com o "International Technology Roadmap for Semiconductors", um estudo que monitora continuamente as necessidades e desafios da indústria de semicondutores para os próximos 15 anos, esta descoberta veio cinco anos antes do que se previa.