Nova técnica simplifica fabricação de componentes ópticos

Redação do Site Inovação Tecnológica - 15/09/2005

Materiais transparentes aos raios ultravioleta - como o vidro de sílica - são largamente utilizados para a fabricação de equipamentos ópticos. Tecnologias de microfabricação - capazes de gerar desenhos de precisão na superfície desses materiais - permitem a construção de dispositivos de alta integração e são elementos-chave na fotônica.

Mas essas tecnologias de microfabricação são tudo, menos simples. Embora o processo de gravação, ou entalhe, seja conceitualmente simples, sua execução exige múltiplos passos: cobertura do material com uma camada de fotoresiste, litografia, gravação e limpeza. Tudo realizado em ambientes de plasma ou fluoreto de hidrogênio, sob altas pressões.

Agora, cientistas japoneses do laboratório AIST ("National Institute of Advanced Industrial Science and Technology"), desenvolveram uma nova técnica que poderá simplificar enormemente esse processo e facilitar o desenvolvimento de novos componentes ópticos, mais baratos e mais complexos.

A nova técnica utiliza raios laser excimer e opera sob pressão atmosférica normal. Além disso, ela elimina a necessidade de uma camada protetora, o passo inicial do processo tradicional. O resultado é um equipamento que pode operar diretamente a partir de um desenho CAD do computador, gerando a peça desejada em poucos minutos.

Batizada de LIBWE ("Laser-induced backside wet etching"), a nova técnica - que reduz o processamento a um único passo - permite a geração dos desenhos desejados sobre o vidro de sílica por meio de sua irradiação com laser ultravioleta, em pulsos com durações de poucos nanosegundos. A mesma simplicidade foi demonstrada utilizando-se LEDs DPSS ("diode-pumped solid state").